出展者ご紹介

溶液プロセスにより作製可能な水蒸気ハイバリアフィルム

　有機ELやペロブスカイト太陽電池等のフレキシブルデバイスの保護に必要なバリア構造を、低コスト・低炭素化が可能なウェットプロセスで達成した。真空紫外光（波長172nm）による光緻密化により、塗布可能な前駆体から常温・窒素下にて緻密な無機膜を形成し、溶液プロセスにおける世界最高の水蒸気バリア性能（水蒸気透過度WVTR = 5 x 10^-5 g/m2/day）を達成した。また最新の結果では、光照射時間の超短時間化にも成功している。これらの技術は水蒸気や酸素に対し劣化が顕著なデバイスやパッケージ分野への応用が期待される。

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  Our technology ; dense films generated by VUV light irradiation

溶液・室温プロセスにより作製可能な誘電体ミラー

誘電体ミラーは、特定の波長の光（紫外・可視・赤外）を反射・透過の制御が可能であり、有機ELなどのオプティカルデバイスや光学ィルムなどで用いられている。誘電体ミラーは高屈折率材/低屈折率材の交互積層構造を有しているが、当研究室は真空紫外光による光緻密化反応を活用することで、溶液プロセスからTiOx/SiOx構造による誘電体ミラー作製に成功した。なお本反応は室温プロセスであることから、PETなどのフィルム基板を用いる事が可能である。